随着互联网的发展，各种展现技术的平台层出不穷，很多人在这些平台上进行推广或者展示自己的技术或者产品。殊不知，随着展示方式的进行，这些技术或者产品也暴露在更多人的面前，一旦这些产品或者技术具有足够的创新性，如果没有及时申请专利，除了会引起他人优先申请之外，也会因为过早公开自己的技术或者产品，而丧失新颖性，失去专利授权的可能性。

某案中，A公司对“商用动漫游戏机”享有外观设计专利的独占实施权，B公司未经许可擅自制造、销售该专利产品。一审认定B公司对A公司的侵权行为成立。然而，在二审中，B公司提交A公司参加展会的现场拍摄图，证明该专利设计在其申请日之前已经公开为公众所知悉，被诉侵权产品使用的设计属于现有设计。

二审法院认定：从证据图片所展示的背景环境及陈设布置，结合该用户先发布了动漫参加展会邀请函，后又于展会开始当天发布了这些图片，因此，B公司的证据已高度盖然地证明本案专利产品已经在国际产业展中展示，该展会的时间早于本案专利的申请日，构成使用公开。对B公司的现有设计抗辩予以支持，无需承担侵权责任。

可见，如果专利在展会上公开展示后，被恶意竞争者抢先制造、销售，这将对真正的专利权人造成极大的损失。

因此，参与展会的企业应在参加展会之前对发明创造提出专利申请或者对已经在国外申请专利的展品再次在我国行使专利优先权来获取专利保护。

参加展会是使用公开中的一种常见方式。使用公开，包括通过制造、销售、使用、展览等行为使产品处于公众可以获知的状态。相对于出版物公开，使用公开也可称为实施公开，即不是将有关技术通过“纸上谈兵”的书面文字来公开，而是将技术通过实际的应用来公开。根据《专利审查指南》的规定，使用公开行为可以包括制造、销售、使用、展览等。

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